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  • 奈米製程領域

  • 更新日期：113-02-05
  • 發布單位：儀器資源中心
【奈米製程領域】高真空鍍膜系統_真空濺鍍系統 (A) / SEMI000603
真空濺鍍系統 A
  • Sputtering System A
    • 廠牌型號：英國 Ion Tech Microvac 450CB
  • 儀器專家：鄭裕庭 教授
    • 03-5712121分機 54169
  • 儀器設備管理人員：黃國華 先生
  • 儀器位置：光復校區 固態電子系統大樓 3 樓實驗室
奈米中心介紹頁連結

儀器資訊
  1. 廠牌型號：英國 Ion Tech Microvac 450CB
  2. 購置年限：1991年4月
  3. 放置地點：光復校區 固態電子系統大樓 3 樓實驗室  (TEL：55608) 
  4. 功能：薄膜濺鍍
  5. 重要規格
    • (1) 3支4吋濺鍍陰極
    • (2) POWER: DC 1500W*2台與RF:600W*1台
    • (3) 可放4吋晶片6片 或 6吋晶片3片
    • (4) 氣體：MFC for Ar, O2，N2
    • (5) 抽氣系統：RP + Cryo Pump
    • (6) 可鍍多層膜
  6. 儀器可使用之特殊製程材料
自行操作儀器
  1. 取得儀器使用權限說明：
  2. 儀器開放等級及人數。
  3. 有儀器使用權限後，需登入下列系統取得序號並預約使用：
委託操作儀器:
  1. 有國科會計畫者，請先至國科會基礎研究核心設施預約服務管理系統預約並取得預約編號，再下載Sputter 委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
  2. 無國科會計畫者，請直接下載Sputter 委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
收費資訊
  1. 貴儀核可項目，有貴儀帳號者請上網預約，無貴儀帳號者請現金付費。
  2. 材料費另計:
    1. 貴重金屬Pt每run厚度上限50nm。
    2. 可擺4吋或3吋晶片6片，6吋3片。
  3. 收費方式
    1. 自行操作：收取開機費+材料費
    2. 委託操作：收取開機費+材料費+代工費
  4. 費用如下表  ※貴重金屬之時價以國際現貨價格為參考訂定。
計畫定價
  學校單位 研究單位 營利事業單位
代工費 (NTD/次) 900 900 900
開機費 (NTD/次) 600 900 900
材料費  (NTD/KA) Al=85  /  Co=90  /  Cr=110   /  Cu=70  /  Fe=70  /  Mg=110  /  Mo=70  /  Ni=170  /  Ta=220  /  Ti=140  /  TiW=200  /  W=110  /  TaSi2=220  /  W5Si=110  /  Pt=時價  /  Pd=時價
 
非計畫定價
  學校單位 研究單位 營利事業單位
代工費 (NTD/次) 900 900 900
開機費 (NTD/次) 1200 9000 9000
材料費  (NTD/KA) (學校單位):Al=170  /  Co=180  /  Cr=220  /  Cu=140  /  Fe=140  /  Mg=220  /  Mo=140  /  Ni=340  /  Ta=440  /  Ti=280  /  TiW=400  /  W=220  /  TaSi2=440  /  W5Si=220  /  Pt=時價   /  Pd=時價(研究/營利事業單位):Al=850  /  Co=900  /  Cr=1100  /  Cu=700  /  Fe=700  /  Mg=1100  /  Mo=700  /  Ni=1700  /  Ta=2200  /  Ti=1400  /  TiW=2000  /  W=1100  /  TaSi2=2200  /  W5Si=1100  /  Pt=時價   /  Pd=時價
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