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國立陽明交通大學研究發展處

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半導體製程類

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  • 更新日期：113-05-22
  • 發布單位：儀器資源中心
[光復校區] 金屬蝕刻系統
 
金屬蝕刻機
  • Metal Etching System
    • 英文簡稱 MES
    • 廠牌 Gigalane
    • 型號 NeoS-MAXIS200H
  • 儀器專家：趙天生 教授
  • 儀器操作技術員：楊宇棠 同學
  • 儀器位置：奈米中心R121室
儀器廠牌、型號、購置年限
廠牌： Gigalane
型號：NeoS-MAXIS200H
購置年限：110

重要規格
  1. 試片承載可放置標準6”晶圓或是破片試片。
  2. 使用氣體包含BCl3、Cl2、CF4、CHF3、Ar、O2、N2
  3. ICP RF最大功率1500W，Bias RF最大功率1000W
  4. 試片溫度控制: -20 oC – +80 oC
  5. 光學蝕刻終點偵測
服務項目
乾式蝕刻，以蝕刻金屬與介電材料為主

開放時間表
  1. 週一至週五：08:00~17:00
  2. 夜間及週六、日：不開放
     
系統開放等級
1.一般上班時段(08:00~17:00)：D級
2.夜間及假日時段：不開放

系統開放等級說明
  • A級：開放給需要使用之學生，經訓練考核後可自行操作。
  • B級：每位教授指派一位學生申請訓練，該教授之其他學生需由接受訓練的學生代為操作，若有教授使用該儀器之學生過多者，可向儀器負責人申請增加接受訓練學生人數。
  • C級：由儀器負責人選定教授推薦之學生若干人接受訓練，經考核後可自行操作儀器並得負責委託服務工作。
  • D級：由本實驗室之技術人員接受委託服務，不開放使用。
收費標準(單位：元)
  委託操作 自行操作
收費標準 學術單位 廠商及研究單位 學術單位 廠商及研究單位
開機費 NTD$1000 NTD$2000 不開放 不開放
蝕刻 NTD$1000/小時 NTD$5000/小時 不開放 不開放
管理及使用辦法：
本系統以學術研究為主。

送樣樣品規範：
  1. 禁止揮發性、腐蝕性與毒性之樣品。
  2. 請詳細說明基底晶片材質，其上含何種物質(如: 金屬材料、介電材料、光阻…等)以及是否要清洗晶片。
  3. 若因代工樣品因素所造成之儀器損壞，由委託方負擔維修相關費用。
操作資格：
本儀器僅開放儀器負責人及本實驗室之技術人員操作

儀器操作預約：
請與管理人員聯絡 _楊宇棠__ TEL:03-5712121 #54224
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