【奈米製程領域】三五族分子束磊晶系統 / SEMI001900
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【奈米製程領域】圖形產生系統 / SEMI002701
【奈米製程領域】光罩對準曝光機 (A) / SEMI003000
【奈米製程領域】光罩對準曝光機 (B) / SEMI003000
【奈米製程領域】氧化擴散系統 / SEMI002800
【奈米製程領域】低壓化學氣相沉積系統 / SEMI002900
【奈米製程領域】電漿輔助化學氣相沉積系統 / SEMI002400
【奈米製程領域】介電材料活性離子蝕刻系統 (A) / SEMI002500
【奈米製程領域】介電材料活性離子蝕刻系統 (B) / SEMI002500
【奈米製程領域】冷場發射掃描式電子顯微鏡暨能量散佈分析儀器 / EM023600
【奈米製程領域】聚焦離子束與電子束顯微系統 / EM0000013900
【奈米製程領域】導電性材料活性離子蝕刻機_高密度活性離子蝕刻系統 / SEMI001100
【奈米製程領域】導電性材料活性離子蝕刻機_矽深蝕刻系統 / SEMI001100
【奈米製程領域】導電性材料活性離子蝕刻機_矽淺蝕刻系統 / SEMI001100
