【奈米製程領域】三五族分子束磊晶系統

• 更新日期：113-05-21
• 發布單位：儀器資源中心

【奈米製程領域】光罩製作系統(DWL-200)

• 更新日期：113-06-11
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【奈米製程領域】圖形產生系統

• 更新日期：113-06-11
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【奈米製程領域】光罩對準曝光機 (A)

• 更新日期：113-06-12
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【奈米製程領域】光罩對準曝光機 (B)

• 更新日期：113-06-12
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【奈米製程領域】氧化擴散系統

• 更新日期：113-06-27
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【奈米製程領域】低壓化學氣相沉積系統

• 更新日期：113-06-12
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【奈米製程領域】電漿輔助化學氣相沉積系統

• 更新日期：113-06-12
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【奈米製程領域】介電材料活性離子蝕刻系統 (A)

• 更新日期：113-06-12
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【奈米製程領域】介電材料活性離子蝕刻系統 (B)

• 更新日期：113-06-12
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【奈米製程領域】冷場發射掃描式電子顯微鏡暨能量散佈分析儀器

• 更新日期：113-06-12
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【奈米製程領域】聚焦離子束與電子束顯微系統

• 更新日期：113-06-12
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【奈米製程領域】導電性材料活性離子蝕刻機_高密度活性離子蝕刻系統

• 更新日期：113-06-12
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【奈米製程領域】導電性材料活性離子蝕刻機_矽深蝕刻系統

• 更新日期：113-06-12
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【奈米製程領域】導電性材料活性離子蝕刻機_矽淺蝕刻系統

• 更新日期：113-06-12
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