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國立陽明交通大學研究發展處

儀器列表

  • 奈米製程領域

  • 更新日期:113-06-12
  • 發布單位:儀器資源中心
【奈米製程領域】電漿輔助化學氣相沉積系統
電漿輔助化學氣相沉積系統
  1. 廠牌型號:Samco
  2. 購置年限:1998年7月
  3. 放置地點:光復校區 固態電子系統大樓 1樓 116實驗室 (TEL:55666) 
  4. 功能:成長SiO2及Si3N4等薄膜
  5. 重要規格:
    1. 可使用晶圓尺寸:破片至4吋
    2. 單腔體:Chamber溫度300°C
    3. 使用的氣體包括:N2O、NH3、CF4、SiH4+Ar、N2等,可提供低溫之SiO2及Si3N4等薄膜沈積
  6. 儀器可使用之特殊製程材料
自行操作儀器
 
  1. 取得儀器使用權限說明:
  2. 儀器開放等級及人數
  3. 有儀器使用權限後,需登入下列系統取得序號並預約使用:
委託操作儀器
  1. 有國科會計畫者,請先至國科會基礎研究核心設施預約服務管理系統預約並取得預約編號,再下載PECVD委託代工申請單,將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
  2. 無國科會計畫者,請直接下載PECVD委託代工申請單,將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
收費資訊
 
  1. 有國科會計畫者依計畫付費標準計價,無國科會計畫者依非計畫付費標準計價。
  2. 收費方式
    • 自行操作:收取開機費+製作費
    • 委託操作:收取開機費+製作費+代工費
  3. 費用查詢連結
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