儀器列表
EN奈米製程領域
- 更新日期：113-06-13
- 發布單位：儀器資源中心
【奈米製程領域】高真空鍍膜系統_高真空鍍膜系統
- High Vacuum Deposition System
- 廠牌型號：高敦科技 KD-Cluster
- 儀器專家：鄭裕庭 教授
- 分機 54169
- 儀器設備管理人員：黃國華 先生
- 分機 55657、55608
- 信箱 guohua@nycu.edu.tw
- 儀器位置：光復校區 固態電子系統大樓 3 樓實驗室
- 分機 55608
- 廠牌型號：高敦科技 KD-Cluster
- 購置年限：2018年11月
- 放置地點：光復校區 固態電子系統大樓 3 樓實驗室 (TEL：55608)
- 功能：多層薄膜濺鍍、蒸鍍
- 重要規格：
- (1).高真空樣品取放系統。(樣品表面可電漿清洗)
- (2).高真空樣品傳送系統。(最大可傳送6吋樣品座)
- (3).高真空電子束蒸鍍系統。(含電子束蒸鍍源 6kw兩組、高壓電源供應器 6kw兩台、X-Y電子束掃描控制器兩台。)
- (4).高真空濺鍍系統。(含DC Power 2 kw一台與RF Power 1 kw一台。)
- (5).可同時放置三組 Holder，每組Holder分別可放置6吋、4吋、3吋、2吋wafer或破片夾持盤。
- 儀器可使用之特殊製程材料
自行操作儀器
- 取得儀器使用權限說明：
- 白天權限申請流程說明 (使用權限為星期一至五8:00~17:00)
- 24小時申請流程說明 (需有白天權限才可申請)
- 注意事項 (務必詳讀，以免損失自身權益)
- HVD System儀器操作規範&考核記錄表
- 儀器開放等級及人數。
- 有儀器使用權限後，需登入下列系統取得序號並預約使用：
- 國科會基礎研究核心設施預約服務管理系統 (取得序號)
- 奈米中心儀器預約系統 (使用時段預約)
委託操作儀器
- 有國科會計畫者，請先至國科會基礎研究核心設施預約服務管理系統預約並取得預約編號，再下載 HVD System 委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
- 無國科會計畫者，請直接下載 HVD System 委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
收費資訊
- 貴儀核可項目，有貴儀帳號者請上網預約，無貴儀帳號者請現金付費。
- 材料費另計，每次滿載 可放置 6吋、4吋、3吋或2吋晶片，共 3片。
- 收費方式
- 自行操作：收取開機費+材料費
- 委託操作：收取開機費+材料費+代工費
- 費用如下表 ※貴重金屬之時價以國際現貨價格為參考訂定。
| 學校單位 | 研究單位 | 營利事業單位 | |
|---|---|---|---|
| 代工費 (NTD/次) | 900 | 900 | 900 |
| 開機費 (NTD/次) | 750 | 1100 | 1100 |
| Sputter材料費 (NTD/KA) | Ti=140 / Ni=170 / Ta=220 / Al=85 | ||
| E-Gun材料費 (NTD/KA) | Ge=70 / Ti=70 / Mo=60 / Ta=100 / Co=60 / W=60 / Ni=50 / Cr=70 / Si=50 / Pt=時價 / Pd=時價 | ||
| 學校單位 | 研究單位 | 營利事業單位 | |
|---|---|---|---|
| 代工費 (NTD/次) | 900 | 900 | 900 |
| 開機費 (NTD/次) | 1500 | 11000 | 11000 |
| Sputter材料費 (NTD/KA) | Ti=280 / Ni=340 / Ta=440 / Al=170 | Ti=1400 / Ni=1700 / Ta=2200 / Al=850 | Ti=1400 / Ni=1700 / Ta=2200 / Al=850 |
| E-Gun材料費 (NTD/KA) | Ge=140 / Ti=140 / Mo=120 / Ta=200 / Co=120 / W=120 / Ni=100 / Cr=140 / Si=100 / Pt=時價 / Pd=時價 | Ge=700 / Ti=700 / Mo=600 / Ta=1000 / Co=600 / W=600 / Ni=500 / Cr=700 / Si=500 / Pt=時價 / Pd=時價 | Ge=700 / Ti=700 / Mo=600 / Ta=1000 / Co=600 / W=600 / Ni=500 / Cr=700 / Si=500 / Pt=時價 / Pd=時價 |
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