基礎服務-奈米製程領域
EN- 更新日期：113-06-12
- 發布單位：儀器資源中心
【奈米製程領域】光罩對準曝光機 (B)
- Double Side Mask Aligner
- 廠牌型號：科毅科技AG1000-6N-ST
- 儀器專家：蘇俊榮 副教授
- 分機 56150
- 信箱 cjsu@nycu.edu.tw
- 儀器操作技術員：趙建允 先生
- 分機 55670、55667
- 信箱 jychaoa@nycu.edu.tw
- 儀器位置：光復校區 固態電子系統大樓 1樓137室
- 分機 55616
注意事項
- 預約使用以一個小時為一時段。
- 具該項儀器設備使用者其製程預約時間每日最多一個時段，不得重複預約
- 預約取消：因突發狀況，導致無法於預約時段內操作該項儀器設備者，應以預約24小時之前取消預約登記，未取消者按原來時段計算收費，原時段得由儀器設備管理人員開放出來給其他使用 者操作使用之，而原預約使用者須接受處罰，其罰則另定之。
- 預約登記使用未準時到者，視同預約未取，其時段得由其他使用者使用之。
- 委託製作者，請先與儀器設備管理人員聯絡。
自行操作儀器
- 申請此機台需同時加考光阻塗佈機、真空烤箱、光學顯微鏡
- 取得儀器使用權限說明：
- 白天權限申請流程說明 (使用權限為星期一至五8:00~17:00)
- 24小時申請流程說明 (需有白天權限才可申請)
- 注意事項 (務必詳讀，以免損失自身權益)
- 雙面光罩對準曝光機操作規範&考核記錄表&Aligner key 建議位置圖
- 儀器開放等級及人數。
- 有儀器使用權限後，需登入下列系統取得序號並預約使用：
- 國科會基礎研究核心設施預約服務管理系統 (取得序號)
- 奈米中心儀器預約系統 (使用時段預約)
委託操作儀器
- 若非標準矽晶圓或其他材必須區分正反面者，需在申請表上或晶片上標註正反面及註明欲進行製程的表面，未標明或不提供確認資訊者恕不收件。
- 有國科會計畫者，請先至國科會基礎研究核心設施預約服務管理系統預約並取得預約編號，再下載雙面光罩對準曝光機委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
- 無國科會計畫者，請直接下載雙面光罩對準曝光機委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
收費資訊
- 有國科會計畫者依計畫付費標準計價，無國科會計畫者依非計畫付費標準計價。
- 只上光阻：每片 NTD $500( 4″ 與 破片 依樣收費 )。
- 代工需要對第二道時 ( 申請者須到場陪同,方便確認對準位置,避免爭議 )。
- 自行操作是以貴儀收費,委託代工會收取代工費與貴儀收費 (兩者)
- 收費方式
- 自行操作：收取使用費
- 委託操作：收取使用費+代工費
- 費用查詢連結
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