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國立陽明交通大學研究發展處

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基礎服務-奈米製程領域

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  • 更新日期：115-05-20
  • 發布單位：儀器資源中心
【奈米製程領域】原子層沉積系統 / SEMI004000
原子層沉積系統
奈米中心介紹頁連結

儀器資訊
  1. 廠牌型號：Veeco Fiji-G2
  2. 購置年度：2023年
  3. 放置地點：光復校區 固態電子系統大樓 1樓 A122 實驗室　(TEL：55616)
  4. 功能：沉積Al2O3、HfO2、TiN、ZrO2、TiO2薄膜
  5. 重要規格：
    • 可使用晶圓尺寸：破片至8吋
    • 雙腔體：Chamber A－前段介電層薄膜沉積，Chamber B－後段介電層和金屬薄膜沉積
    • 可進行熱沉積(thermal deposition)及電漿輔助沉積(plasma-enhanced deposition)
    • 使用氣體：Ar、N2、O2、NH3、H2、CF4
  6. 儀器可使用之特殊製程材料
注意事項
1.使用Chamber A之試片不得含有金屬薄膜或經過後段製程，並且沉積前須先進RCA clean。
2.請詳細說明基板晶片材質及其上含何種物質。
3.Chamber A可進基板材質：Si、Ge。
4.每件委託代工申請單以3個run或6個小時製程時間為限。
自行操作儀器
  1. 取得儀器使用權限說明：
  2. 儀器開放等級及人數。
  3. 有儀器使用權限後，需登入下列系統取得序號並預約使用：
委託操作儀器
  1. 有國科會計畫者，請先至國科會基礎研究核心設施預約服務管理系統預約並取得預約編號，再下載 ALD委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
  2. 無國科會計畫者，請直接下載 ALD委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
收費資訊
  1. 有國科會計畫者依計畫付費標準計價，無國科會計畫者依非計畫付費標準計價。
  2. 不足一小時以一小時計算。
  3. Clean之費用詳見Wet_Bench收費表。
  4. 收費方式：
    • 自行操作：收取製作費+材料費
    • 委託操作：收取製作費+材料費+代工費
  5. 費用查詢連結：https://vir.nstc.gov.tw/VI_SearchResult?item=1
儀器列表 奈米製程領域儀器
相關圖片：
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