基礎服務-奈米製程領域
EN- 更新日期：114-05-14
- 發布單位：儀器資源中心
【奈米製程領域】熱蒸鍍系統_雙電子槍蒸鍍系統 (A)
- Dual E-Gun Evaporation System A
- 廠牌型號：日本ULVAC EBX-10C
- 儀器專家：鄭裕庭 教授
- 分機 54169
- 儀器諮詢與操作服務：鄭鴻霖 先生
- 分機 55657、55608
- 信箱 hljeng@nycu.edu.tw
- 儀器位置：光復校區 固態電子系統大樓 3 樓實驗室
- 分機 55608
自行操作儀器
- 取得儀器使用權限說明：
- 白天權限申請流程說明 (使用權限為星期一至五8:00~17:00)
- 24小時申請流程說明 (需有白天權限才可申請)
- 注意事項 (務必詳讀，以免損失自身權益)
- E-Gun (A)儀器操作規範&考核記錄表
- 儀器開放等級及人數。
- 有儀器使用權限後，需登入下列系統取得序號並預約使用：
- 國科會基礎研究核心設施預約服務管理系統 (取得序號)
- 奈米中心儀器預約系統 (使用時段預約)
委託操作儀器
- 有國科會計畫者，請先至國科會基礎研究核心設施預約服務管理系統預約並取得預約編號，再下載E-Gun (A)委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
- 無國科會計畫者，請直接下載E-Gun (A)委託代工申請單，將填寫好之申請單及材料送至本中心(本校固態電子系統大樓2F)給各儀器管理人員協助排程代工。
收費資訊
- 有國科會計畫者依計畫付費標準計價，無國科會計畫者依非計畫付費標準計價。
- 材料費另計
- 一次滿載可放置4吋或3吋晶片18片，或6吋3片加4吋或3吋6片。
- 自備 Pt 請準備純度 99.99% 之顆粒，全新適用ULVAC機台用3cc之石墨坩鍋，至少填九成滿。自備材料者，因操作過程所造成任何之坩鍋及材料的損耗，本中心不予負責。
- Pt 每RUN厚度上限50nm 。
- 收費方式：
- 自行操作：收取開機費+材料費
- 委託操作：收取開機費+材料費+代工費
- 費用查詢連結
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